光刻胶，又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生明显的变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。

  在光刻工艺过程中，光刻胶用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采取了适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。由于在生产的全部过程中需求量较大，光刻胶可谓半导体工艺流程中最重要的原材料之一。

  同时，光刻胶是电子化学品中技术壁垒最高的材料，具有纯度要求高、生产的基本工艺复杂、生产及检测等设备投资大、技术积累期长等特征，受技术限制，我国中低端光刻胶产品在全球占有一席之地，但高端光刻胶相对进展缓慢。不过，技术上的限制带来的也有国产替代的预期，近年来，国家出台了一系列政策扶持半导体及光刻胶产业高质量发展，推动产业研发和国产替代进程。例如，鼓励企业加大研发投入，支持光刻胶企业与下游半导体企业合作，加速产品验证和市场推广等。

  根据思瀚产业研究院的测算，2023 年我国光刻胶市场规模约为 121 亿元，2024-2029 年中国光刻胶市场规模年均复合增长率约10%，到2029年中国光刻胶市场规模预计突破200亿元。在 PCB、显示面板与半导体产业国产化进程加速、产业链自主可控需求迫切的背景下，作为上游关键材料的光刻胶呈现明显的进口替代趋势，国产光刻胶或将迎来加快速度进行发展的机遇。

  总体来看，光刻胶国产替代的前景广阔，但也需要克服技术、原材料、市场等方面的挑战。下面是部分光刻胶概念股的概念解析，谨供投资者参考。

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